এনআইআর প্ল্যান অ্যাপো ৫০এক্স/০.৬৭ – থ্রু-সিলিকন ইমেজিং এবং ফাইবার লেজার প্রসেস মনিটরিং এর জন্য ইনফিনিটি কারেক্টেড মেটালারজিক্যাল অবজেক্টিভ

NIR প্ল্যান অ্যাপো 50X/0.67 হলো একটি প্রিমিয়াম ইনফিনিটি কারেক্টেড প্ল্যান অ্যাপোক্রোম্যাটিক মাইক্রোস্কোপ অবজেক্টিভ, যা বিশেষভাবে নিয়ার-ইনফ্রারেড (NIR) অ্যাপ্লিকেশনের জন্য অপ্টিমাইজ করা হয়েছে। এর নিউমেরিক্যাল অ্যাপারচার (NA) ০.৬৭ এবং ওয়ার্কিং ডিসটেন্স (WD) ১০ মিমি হওয়ায়, এটি ৩৮০–৭০০ nm দৃশ্যমান পরিসরের পাশাপাশি গুরুত্বপূর্ণ ১০৬৪ nm তরঙ্গদৈর্ঘ্য জুড়ে অসাধারণ রেজোলিউশন (০.৫ µm) এবং চমৎকার NIR ট্রান্সমিশন প্রদান করে – যা এটিকে সিলিকন ওয়েফারের পেছনের দিকের পরিদর্শন, থ্রু-সিলিকন ভায়া (TSV) মেট্রোলজি এবং ফাইবার লেজার প্রসেসিংয়ের রিয়েল-টাইম পর্যবেক্ষণের জন্য আদর্শ করে তোলে।

মূল বৈশিষ্ট্যসমূহ:

• বিবর্ধন: ৫০ গুণ
• সংখ্যাসূচক অ্যাপারচার (NA): ০.৬৭
• কার্যকরী দূরত্ব (WD): ১০ মিমি
• ফোকাল দৈর্ঘ্য: ৪ মিমি
• রেজোলিউশন: ০.৫ মাইক্রোমিটার
• ক্ষেত্রের গভীরতা (±DF): ০.৭৫ µm
• সর্বোচ্চ দৃশ্যমান ক্ষেত্র: ০.৫ মিমি
• ওজন: ৪৩০ গ্রাম
• অপটিক্যাল ডিজাইন: ইনফিনিটি কারেক্টেড, প্ল্যান অ্যাপোক্রোম্যাট (APO)
• কার্যকরী তরঙ্গদৈর্ঘ্য: ৩৮০–৭০০ nm এবং ১০৬৪ nm
• নিমজ্জন মাধ্যম: বায়ু